电子束曝光机的技术架构思维导图
电子束曝光机的技术架构概述
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思维导图大纲
电子束曝光机的技术架构思维导图模板大纲
现有的电子束曝光机设备
主要分为两类：普通型电子束曝光机产品（即小曝光机）、专业型电子束曝光机产品（即大曝光机）
专业型电子束曝光机三类技术路线：高斯束电子束曝光机、可变形束电子束曝光机、多束电子束曝光机
全球市场电子束曝光系统主要厂商：日本JEOL，德国Raith、英国NanoBeam、日本Elionix、日本Crestec、德国Vistec、日本Nuflare等
技术难点：高质量电子束、高速高稳定性电子束偏转控制、精密激光干涉位移测控、图形矢量扫描信号生成与调控
电子束曝光机系统结构
高质量电子束：电子枪结构改进（1）
精密激光干涉位移测控：位移测控指令触发下，激光干涉样品台运动结构改进（2）
提高精度类结构改进
减震结构改进（3）
磁屏蔽结构改进（4）
温控结构改进（5）
电气控制及软件系统
高质量电子束
电子源控制方法改进（1）
电子光控制方法改进（2），可结合改进（1）
高速高稳定性电子束偏转控制：偏转控制方法改进（3）
精密激光干涉位移测控
激光干涉位移测控方法改进（4）
运控反馈控制方法改进（5），可结合改进（4）
图形矢量扫描信号生成与调控：扫描速度提升方法改进（6）
来源——金竟EBL文档
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