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专利保护和商业保护思维导图

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专利保护和商业保护

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思维导图大纲

专利保护和商业保护思维导图模板大纲

绝大多数企业,在取得科研成果后,都会毫不犹豫地将该项科研成果申请专利保护,似乎科研成果一旦获得专利权,就大功告成了。其实,这是对专利保护方式的片面理解。专利保护也是有严重缺陷的,有些企业就是因为对科研成果错误选择了专利保护方式而使企业丧失了竞争力甚至最终倒闭。专利保护的缺陷表现为如下四个方面:

1、专利保护有期限性。根据我国《专利法》规定,发明创造包括三类,即发明、实用新型和外观设计。其中发明专利权的保护期限为20年,实用新型专利权和外观设计专利权的期限为10年。这表明,一旦发明创造获得专利权后,最多只能获得20年的法律保护。超过这一期限,企业的发明和技术创新将被置于公众领域,无偿贡献给社会,任何企业均可免费使用该发明或技术创新。

2、专利保护破坏秘密性。因为申请专利必须将企业的发明创造公之于众,使该技术成为公知技术,这样,任何人都可以轻易获得专利技术,因此,专利技术的公开化,无疑给不法企业侵犯专利权提供了现实条件。

3、专利保护会使得企业失去竞争力。科研成果被授予专利后,其他企业可以在已获得专利的技术基础之上,再发展成新的发明创造,获得新的专利。尽管企业的专利仍然受到法律保护,但是同更新的技术相比已经处于劣势,企业将失去竞争力。

4专利保护有代价。申请专利需要支付一定的费用,而获得专利后也要缴纳年费。

对于科研成果,企业应根据不同情况,选择专利保护或商业秘密保护,那么,企业如何选择科研成果法律保护方式呢?

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